2015年科技融藝人才國外駐棧創作 公開徵選

主辦人/單位: 國立臺灣美術館
活動類別: 其他

首次展演日期: 2025-10-30    結束展演日期: 2015-05-20

 一、申請名額及地點：
(一)  名額：2015年補助1-3名（駐棧機構擁有最後決定權，必要時得予從缺）。
(二)  地點：本年度與本館簽約之國外數位藝術機構為：
1.    荷蘭V2_動態媒體藝術中心（V2_Institute for the Unstable Media，以下簡稱｢V2_」）：配合該中心之夏季駐棧計畫(Summer Session)，於2015年7月開始為期約8至10週之駐棧。
2.    西班牙LABoral藝術與創意產業中心（LABoral Centro de Arte y Creación Industrial）：於2015年9月開始為期8至10週之駐棧。
 
二、申請對象及條件
(一)    具備中華民國國籍，無兵役或其他法律限制出國者。
(二)    以新媒體藝術類為限（含數位藝術、科技藝術、生物藝術等），至申請截止日前持續創作兩年以上， 且曾舉辦個展、聯展或聯合演出者。
(三)    具備英語或所駐棧國之語言溝通能力者（如有外語能力檢定證明請於「申請資料表」中填列）。
(四)    具備與本館簽約之國外數位藝術機構所要求之能力，且創作計畫獲該機構審核同意者。
(五)    申請前往V2_者，另須配合V2_夏季駐棧計畫之規範，申請者須為至申請截止日止年齡未滿35歲，或自學校畢業五年以內者。
(六)    符合前述（一）至（三）項條件，且已獲國外相關機構同意，將於當年度前往該機構駐站創作者，得向本館申請補助全部或部分經費。
 
三、申請及結果公告時間
(一)  申請時間：自 2015年4月10日至5月20日24時止，一律採線上報名。請至｢台灣數位藝術知識與創作流通平台｣網站（http://www.digiarts.org.tw/）進行線上報名程序。資料缺件、逾時或與規定不符者不受理。
(二)    結果公告：預定2015年6月公告評選結果。
＊上述時間如有更動，將公告於國立臺灣美術館網站。
 
四、申請方式：請至｢台灣數位藝術知識與創作流通平台｣網站（http://www.digiarts.org.tw/）進行線上報名。如有操作上的問題，請於上班時間電洽本館承辦人員。
 
五、詳細資訊請至本館官網下載「2015年科技融藝人才國外駐棧創作徵選簡章」。

活動聯絡電話: 04-23723552 分機712    活動聯絡人: 官小姐